Первый демонстрационный образец российского литографа для производства микросхем будет готов в течение ближайших двух лет, а в течение пяти лет ученые планируют изготовить промышленный вариант установки. Об этом ТАСС рассказал научный руководитель Национального центра физики и математики, академик РАН Александр Сергеев.

«Мы планируем в течение двух лет сделать машину, она называется "альфа-машиной», которая подтвердит правильность выбранной технологии и продемонстрирует работающий литограф. А дальше уже будет осуществляться изготовление следующей версии, такой, которая будет комплексом, <…> тем, что можно будет поставить на предприятие микроэлектронной промышленности", – рассказал Сергеев, отметив, что в России есть практически все компетенции, чтобы такой промышленный вариант отечественного литографа появился уже через пять лет.

Основная задача альфа-машины – демонстрация того, что все фрагменты технологии работают вместе, а не по отдельности, отметил академик: «Это и источник рентгеновского изучения, и рентгеновская оптика, которая правильным образом проецирует на фоторезисте, это и фоторезисты, и система позиционирования с нанометровой точностью».

Причем, уточнил Сергеев, целевое разрешение в 28 нм будет получено не сразу.

«Конечно, это не означает, что через два года там будет разрешение в 28 нанометров. Оно будет улучшаться постепенно. И не за счет того, что мы будем внедрять какие-то новые технологии – технологии мы продемонстрируем сразу, а за счет того, что будет оттачиваться работа. <…> Я думаю, что будет прекрасно, если мы с этими новыми технологиями через два года продемонстрируем 90 нанометров, которые сейчас у нас есть, но уже в слаженной работе всех систем», – сказал он.

По словам академика, проект создания литографа финансирует Росатом из своих инвестиционных программ, и этот проект пользуется активной поддержкой правительства страны.

Литография для производства микросхем

Литография (от греческих «lithos» – камень и «grapho» – пишу, рисую) – одна из наиболее широко распространенных технологий для получения наноструктур. Первоначально литографией называли способ печати, при котором оттиски получаются переносом краски под давлением с плоской печатной формы на гладкую поверхность. Литография в микро- и наноэлектронике – это формирование рельефного рисунка в специальном чувствительном слое – резисте – на поверхности кремниевой подложки. Рисунок повторяет геометрию микросхемы.

Для этого на кремниевую подложку наносят тонкий слой материала, из которого нужно сформировать рисунок. На этот слой наносится светочувствительный материал – фоторезист, который подвергается облучению через оптическую систему и фотошаблон – маску. Она представляет собой увеличенный трафарет проецируемого рисунка. После последующей обработки фоторезиста на пластине остается заданный рисунок. Чем меньше длина волны излучения, тем меньше размеры получаемых элементов рисунка. В процессе изготовления микросхем операция фотолитографии на одной пластине повторяется многократно, и каждое новое изображение должно очень точно совмещаться с предыдущим.