Швейцарские учёные из Федеральной политехнической школы Лозанны показали удобный и простой метод динамической трафаретной литографии. В отличие от традиционного метода, когда над подложкой закрепляют трафарет с уже выполненными отверстиями нужного размера, при динамическом варианте этого процесса трафарет способен перемещаться в процессе напыления металла на подложку.

По словам участницы опытов Вероники Саву (Veronica Savu), это позволит создавать разнообразные двумерные изображения в рамках одной технологической операции. Проведенный эксперимент доказал, что новый метод можно применять на стандартных 100-миллиметровых подложках для создания субмикрометровых структур. И хоть ничего радикального нового в технологии динамической литографии нет, но до сегодняшнего времени никто не добивался подобных результатов, добавляет Вероника Саву.

Руководител группы Юрген Брюггер (Juergen Brugger) уверен, что динамическая литография потеснит более сложные и затратные методики, которые основаны на использовании резиста. В ближайшем будущем команда ученых будет испытывать технологию на практике, цель исследователей – создание полнофункциональных транзисторов на графене или нанопроводах.

Полную версию отчёта можно посмотреть в статье:

Veronica Savu, Shenqi Xie and Juergen Brugger 100 mm dynamic stencils pattern sub-micrometre structures. – Nanoscale.– 2011. – 3. – P.~2739–2742; DOI: 10.1039/C1NR10083A.

Рис. 1. Сравнение трафаретной литографии и «обычной» литографической методики. Первый этап процесса — металлизация — оказывается общим, но трафаретная технология даёт результат гораздо быстрее.