Алюмооксидная керамика. Керамические материалы на основе α–Al₂O₃ (алюмооксидная керамика) широко используются в электронной и электротехнической промышленности. Широкое применение алюмооксидная керамика находит в технологии изготовления подложек для интегральных схем и корпусов полупроводниковых приборов. Однако реальная поверхность керамических подложек, полученных по стандартной технологии, имеет большое количество дефектов, поэтому важную роль играют процессы подготовки поверхности подложек перед нанесением металлических и диэлектрических слоев и последующей пайкой и сборкой.

Сапфировые подложки. Тонкие пластины сапфира (искусственно выращиваемый кристалл, разновидность алюмооксидной керамики), которые применяются в опто- и микроэлектронике для наращивания на них слоев из различных материалов (нитрид галлия, кремний, другие материалы). Сапфир является основным материалом при производстве светодиодов, так как его кристаллическая решетка позволяет наращивать эпитаксиальный слой нитрида галлия (GaN) с хорошими рабочими характеристиками и соотношением цена/качество.

Эпитаксиальный слой. Эпитаксия – рост одного монокристалла на монокристаллической поверхности другого. Важное значение для получения эпитаксиальных слоев высокого кристаллического совершенства имеют чистота поверхности подложки, скорость нанесения материала и температура процесса. Эпитаксиальный рост широко используется в нанотехнологиях и производстве полупроводниковых приборов для создания слоев полупроводниковых материалов с высоким кристаллическим качеством, таких, как кремний, германий, нитрид галлия, арсенид галлия и фосфид индия.

Лазерное нанотекстурирование. В настоящее время процессы лазерной обработки керамических материалов представляют наибольший интерес, поскольку они приводят не только к улучшению качества поверхности подложек, но и открывают путь к созданию аддитивных технологических процессов изготовления интегральных схем. С научной и практической точки зрения также большой интерес представляет получение новых свойств материалов путем модификации поверхности с помощью лазерного воздействия. Наряду с уменьшением шероховатости поверхности, изменением химического состава приповерхностного слоя наблюдается текстурирование поверхности. Т.е., появляется возможность управления оптическими, механическими и электрическими свойствами поверхности.

При подготовке справки использовалась информация с сайтов: www.rusnano.com, http://thesaurus.rusnano.com, www.russianelectronics.ru.