Dow Corning выпускает резист для электронно-лучевой литографии с высоким разрешением

Dow Corning Corp. (Auburn, Мичиган, США) приступила к продажам электронно-лучевого резиста (XR-1541), поддерживающего формирование рисунка с высоким (6 нм) разрешением.

XR-1541XR-1541

Чувствительность нового резиста еще недостаточно высока для массового производства наноэлектронных схем (компания работает над ее увеличением), но высокое разрешение позволит использовать выпускаемый резист в исследовательских целях. Резист XR-1541 может также использоваться при воспроизведении рисунка схем 1:1, что делает его перспективным для наноимпринт литографии.

Пожалуйста, оцените статью:
Пока нет голосов
Источник(и):

Semiconductor: Dow Corning Spins E-Beam Photoresist